【台积电(TSM.US)涨超 1.7%,报 184.3 美元】消息称,台积电在 2nm 制程节点获重大突破,将首用 Gate-all-around FETs 晶体管技术。 相较当前 N3E 工艺,N2 工艺在相同功率下性能可提升 10%至 15%,相同频率下功耗能降低 25%至 30%。 台积电每片 300mm 的 2nm 晶圆价格或超 3 万美元,高于此前预期的 2.5 万美元,目前 3nm 晶圆约 1.85 万至 2 万美元,4/5nm 晶圆在 1.5 到 1.6 万美元之间。

台积电:2nm突破 晶圆价格或超3万美元  第1张

【免责声明】本文仅代表作者本人观点,与和讯网无关。和讯网站对文中陈述、观点判断保持中立,不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。邮箱:[email protected]

台积电:2nm突破 晶圆价格或超3万美元  第2张